| “光刻机”的概念、技术及其在专利文献中的分布 |
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| 引用本文： | 王晓东.“光刻机”的概念、技术及其在专利文献中的分布[J].中国科技术语,2014(Z1). |
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| 作者姓名： | 王晓东 |
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| 作者单位： | 国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心,北京,100190 |
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| 摘 要： | 光刻机技术是大规模集成电路制造领域中的核心技术。文章介绍了光刻机的概念、结构及其简要技术发展历程，并列举和解释了光刻机技术领域的重点技术术语，此外，针对光刻机技术的专利文献查新检索，总结了光刻机技术在专利文献分类中的分布情况。
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| 关 键 词： | 光刻 光刻机 专利 IPC分类 |
Technology of Lithography Tool and its Distribution in Patent Literatures |
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| WANG Xiaodong.Technology of Lithography Tool and its Distribution in Patent Literatures[J].Chinese Science and Technology Terms Journal,2014(Z1). |
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| Authors: | WANG Xiaodong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | lithography lithography tool patent IPC |
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