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| 基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究 | |
| 引用本文： | 王杨,阮妹,杨梦雨,王茜.基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究[J].华东科技,2022(12):60-62. |
| 作者姓名： | 王杨 阮妹 杨梦雨 王茜 |
| 作者单位： | 1. 上海市研发公共服务平台管理中心;2. 华东师范大学经济与管理学部 |
| 摘 要： | <正>光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是大规模半导体制造的核心设备，它的精度决定了芯片制程的精度，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。全球高精度半导体用光刻机主要来自荷兰的ASML以及日本的Nikon和Canon这三家公司，而最顶级的EUV光刻机仅有ASML公司能够生产，最高能支持2nm芯片的制造， |
| 关 键 词： | 光刻机 发展态势 研究现状 文献计量 |