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红外目标温度场及辐射通量的计算
引用本文:魏玺章,黎湘,庄钊文,付耀文.红外目标温度场及辐射通量的计算[J].系统工程与电子技术,1999,21(9):3.
作者姓名:魏玺章  黎湘  庄钊文  付耀文
作者单位:国防科技大学电子工程学院精确制导ATR国家重点实验室,长沙,410073
基金项目:国家自然科学基金,“九五”国防预研基金
摘    要:针对红外目标的温度场和红外辐射通量的计算进行了研究。首先,研究了一般情况下的背景辐射,将背景辐射区分为三个部分,两种状态,分别予以讨论;随后,建立了几种简单形状物体的理论模型,利用这几种简单的模型,综合成复杂形状目标的模型,进而求解复杂形状物体的表面温度场;最后,给出了目标红外辐射通量的计算方法,并计算了某目标表面在两种情况下的温度。

关 键 词:红外目标  温度场  辐射通量  红外成像
修稿时间:1999年3月19日

Calculation of Temperature Field and Radiation Flux for Infrared Target
Wei Xizhang,Li Xiang,Zhuang Zhaowen,Fu Yaowen.Calculation of Temperature Field and Radiation Flux for Infrared Target[J].System Engineering and Electronics,1999,21(9):3.
Authors:Wei Xizhang  Li Xiang  Zhuang Zhaowen  Fu Yaowen
Abstract:In this paper, we study how to calculate temperature field and radiation flux of infrared target. First of all, we research on the radiation of background and divide it into three parts and two kinds of state to discuss;Secandly, set up the theoretical model of several kinds of simple shape target. By these models, we can get the model of complex shape target to calculate temperature field;Finally,gives out the method to calculate the radiation flux and calculace the temperature of a target surface.
Keywords:Target  Background  Temperature field  Radiation flux  
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