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对GD-a-SiC∶H膜等离子刻蚀的研究
引用本文:王印月 ,张亚非 ,张仿清.对GD-a-SiC∶H膜等离子刻蚀的研究[J].兰州大学学报(自然科学版),1987(4).
作者姓名:王印月  张亚非  张仿清
摘    要:本文研究了通入(CF_4+O_2)混合气体对 GD—a—SiC∶H 膜的等离子刻蚀.通过测量混合气体中 O_2的比例对刻蚀速率的影响,得到 O_2气比例为76%时最大刻蚀速率大约是1500(?)/分.

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