| 计算机控制的PCVD系统 |
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| 引用本文： | 聂东林,杨丽颖.计算机控制的PCVD系统[J].济南大学学报(自然科学版),1996(3). |
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| 作者姓名： | 聂东林 杨丽颖 |
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| 作者单位： | 山东建材学院机械工程系 |
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| 摘 要： | 对ＬＬ－ＰＣＶＤ（真空负载保护等离子体化学气相沉积系统）进行了计算机控制的改进，改进后的设备在沉积过程中各路源气体可进行自动控制。在改进后的设备上采用逐层生长法制备了ｎｃ－Ｓｉ∶Ｈ薄膜。讨论了关键的技术问题
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| 关 键 词： | 计算机控制 等离子体化学气相沉积系统 纳米硅薄膜 |
COMPUTER CONTROLLED PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM |
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| Nie Donglin,Yang Liying.COMPUTER CONTROLLED PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM[J].Journal of Jinan University(Science & Technology),1996(3). |
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| Authors: | Nie Donglin Yang Liying |
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| Abstract: | The improvement of computer controlling of load lock plasma chemical vapor deposition system has been analysed.The source gases can be controlled automatically after the improvement of the deposition system.The nanocrystalline silicon films have been prepared using layer by layer deposition method.Some key technics have been discussed. |
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| Keywords: | computer controlling plasma chemical vapor deposition system nanocrystalline silicon films |
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