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六甲基二硅胺烷对气相法白炭黑的表面改性
引用本文:汪齐方,李春忠,王志庭,杨化桂,康春雷,方图南.六甲基二硅胺烷对气相法白炭黑的表面改性[J].华东理工大学学报(自然科学版),2001,27(6):626-630.
作者姓名:汪齐方  李春忠  王志庭  杨化桂  康春雷  方图南
作者单位:1. 华东理工大学超细材料制备与应用教育部重点实验室,上海,200237
2. 石家庄宝石电气硝子玻璃有限公司,石家庄,050053
基金项目:国家自然科学基金资助项目 ( 2 96 36 0 10 ),上海市重大科技创新项目 ( 995 2 110 0 1),上海市科技启明星基金( 0 0 QE14 0 45 )
摘    要:在流化床反应器中,利用六甲基二硅胺烷(HMDS)对气相法制备的纳米二氧化硅了表面包覆,研究了包覆温度、包覆时间、HMDS分压等对纳米二氧化硅表面羟基、含碳量、pH值的影响,分析了表面包覆后气相法白炭黑的形态与结构。结果表明气相法白炭黑表面包覆HMDS后,团聚状态得到明显改善;随着处理时间的延长,温度的升高以及HMDS分压的升高,经表面处理后的白炭黑的pH值和含碳量增加,表面羟基数明显减少。反应时间小于15min时,包覆速率较快,然后趋于平缓;反应温度小于250℃时,温度对包覆效率影响较大,温度大于400℃则影响较小;HMDS分压较低时,分压对包覆效果影响较大,当分压超过7.9kPa,则影响甚微。

关 键 词:气相法白炭黑  六甲基二硅胺烷  表面改性  表面羟基  纳米二氧化硅  表面包覆  流化床反应器
文章编号:1006-3080(2001)06-0626-05
修稿时间:2000年12月19

Fumed Silica Modified by Hexamethyldisilazane
WANG Qi fang ,LI Chun zhong ,WANG Zhi ting ,YANG Hua gui ,KANG Chun lei ,FANG Tu nan.Fumed Silica Modified by Hexamethyldisilazane[J].Journal of East China University of Science and Technology,2001,27(6):626-630.
Authors:WANG Qi fang  LI Chun zhong  WANG Zhi ting  YANG Hua gui  KANG Chun lei  FANG Tu nan
Institution:WANG Qi fang 1,LI Chun zhong 1*,WANG Zhi ting 2,YANG Hua gui 1,KANG Chun lei 1,FANG Tu nan 1
Abstract:
Keywords:fumed silica  HMDS  surface modification  surface silanol groups
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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