| 磁控溅射ITO透明导电薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 陈跃.磁控溅射ITO透明导电薄膜的研究[J].福州大学学报(自然科学版),1999,27(4):18-20. |
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| 作者姓名： | 陈跃 |
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| 作者单位： | 福州大学电子科学与应用物理系,福建福州350002 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控反应溅射法制备锡掺杂氧化铟 （ Ｉ Ｔ Ｏ） 薄膜， 研究了不同的基片温度、氧分压等工艺参数对 Ｉ Ｔ Ｏ 薄膜电学、光学性能的影响， 制备出方块电阻为２０ － ５０ Ω、可见光透射率高于８６ ％ 的 Ｉ Ｔ Ｏ 薄膜
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| 关 键 词： | 磁控溅射 ITO 导电薄膜 |
| 修稿时间： | 1998-12-07 |
On Transparent Conductive Indium Tin Oxide FilmPrepared by DC Magnetron Reactive Sputtering Technique |
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| CHEN Yue.On Transparent Conductive Indium Tin Oxide FilmPrepared by DC Magnetron Reactive Sputtering Technique[J].Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition),1999,27(4):18-20. |
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| Authors: | CHEN Yue |
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| Institution: | C H E N Yue( Departmentof Electronic Science and Applied Physics, Fuzhou University , Fujian Fuzhou 350002 , China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ITO |
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