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基于GaAs pHEMT工艺的宽带6位数字移相器MMIC
引用本文:周守利,顾磊,张景乐,吴建敏.基于GaAs pHEMT工艺的宽带6位数字移相器MMIC[J].南京大学学报(自然科学版),2023(1):183-188.
作者姓名:周守利  顾磊  张景乐  吴建敏
作者单位:1. 浙江工业大学信息工程学院;2. 杭州萧山技师学院
基金项目:中国博士后科学基金(2013M540147);
摘    要:基于0.15μm GaAs pHEMT (pseudomorphic High Electron Mobility Transistor)工艺,研制了一款6位数字移相器微波单片集成电路(Monolithic Microwave Integrated Circuit,MMIC).该移相器由六个基本移相位级联组成,工作频带为10~18 GHz,步进值为5.625°,移相范围为0~360°,具有64个移相态.根据最优拓扑选择理论,5.625°,11.25°,22.5°移相位采用桥T型结构,降低了移相器的插损及面积;采用开关型高低通滤波器结构实现45°,90°,180°移相位,提高了大移相位的移相精度,并有效降低了寄生调幅.实测结果表明:64态移相寄生调幅均方根误差小于0.6 dB,移相输入输出回波损耗低于-11 dB,移相均方根误差小于4.2°,基态插入损耗低于8.6 dB.芯片尺寸为3.35 mm×1.40 mm.该数字移相器具有宽频带、高移相精度、尺寸小的特点,主要用于微波相控阵T/R组件、无线通信等领域.

关 键 词:GaAs  pHEMT  宽带  数字移相器  微波单片集成电路
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