| 模拟空间原子氧对Teflon FEP/Al薄膜性能的影响 |
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| 作者姓名： | 初文毅 杨士勤 何世禹 杨坚华 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学,空间材料与环境工程实验室,黑龙江,哈尔滨,150001;黑龙江大学,化学化工与材料学院,黑龙江,哈尔滨,150080;哈尔滨工业大学,空间材料与环境工程实验室,黑龙江,哈尔滨,150001;真空低温技术与物理国防科技重点实验室,甘肃,兰州,730000 |
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| 基金项目： | Supported by the Special Funds National Key Laboratory of China (514750301 HT0102 ) ;National Natural Science Foundation of
China ( 50373007 ) |
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| 摘 要： | 采用同轴原子氧模拟装置进行了空间原子氧效应对温控材料Teflon FEP/Al薄膜的影响研究.在束流密度为1.07×1016atoms/cm2·s的条件下,对材料进行不同剂量辐照,研究了Teflon FEP/Al薄膜的质量损失、表面形貌、表面粗糙度和光学性能的演化规律和表面元素的组成变化.试验结果表明,材料的质量损失与原子氧辐照剂量成正比例关系.随着原子氧辐照剂量的增加,材料的表面形貌由平整变为"地毯状"形貌,表面粗糙度、太阳吸收率和太阳吸收率与热发射率的比值发生明显变化,从而导致材料光学性能发生变化.辐照前后材料表面成份组成变化不大.
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| 关 键 词： | 原子氧 温控材料 质量损失 表面粗糙度 太阳吸收率 |
| 文章编号： | 1001-7011(2005)06-0710-06 |
| 修稿时间： | 2004-10-16 |
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