| 硅衬底上薄金膜的椭偏光谱和光学性质 |
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| 引用本文： | 陈东,莫党.硅衬底上薄金膜的椭偏光谱和光学性质[J].中山大学学报(自然科学版),1987(2). |
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| 作者姓名： | 陈东 莫党 |
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| 作者单位： | 中山大学微电子研究所，中山大学物理学系 |
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| 摘 要： | 用椭圆偏振光谱法测量了Au膜—Si衬底系统在紫外—可见光范围的光学性质,其结果不能用理想的突变界面模型来解释.分析了空洞、表面粗糙及过渡层对椭圆偏振光谱的影响.此外,还考虑了界面处形成的Au—Si合金层,并用经典振子模型来进行分析.分析表明,后者对Au—Si系统的椭偏光谱影响最大.综合上述因素,可使椭圆偏振光谱的理论计算值与实验结果符合得很好.低温退火后(100℃,10分钟),Si原子扩散到Au膜表面并容易与氧作用形成氧化层.
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| 关 键 词： | 金属半导体接触 界面 固体光学性质 椭偏光法 |
Ellipsometric Spectra and Optical Properties of Thin Gold Film on Silicon Substrate |
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| Chen Dong Mo Dang.Ellipsometric Spectra and Optical Properties of Thin Gold Film on Silicon Substrate[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni,1987(2). |
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| Authors: | Chen Dong Mo Dang |
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| Institution: | Chen Dong Mo Dang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | metal-semiconductor contact interface optical properties of solids ellipsometry |
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