| 化学镀钴基垂直磁化膜的磁力显微镜研究 |
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| 引用本文： | (沈憧棐,(汤俭,(刘志辉,(陈皓明,(张平城,(白春礼.化学镀钴基垂直磁化膜的磁力显微镜研究[J].科学通报,1996,41(2):144-147. |
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| 作者姓名： | (沈憧棐 (汤俭 (刘志辉 (陈皓明 (张平城 (白春礼 |
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| 作者单位： | 清华大学现代应用物理系!北京100084(沈憧棐，汤俭，刘志辉，陈皓明)，中国科学院化学研究所!北京100080(张平城，白春礼) |
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| 摘 要： | 垂直磁记录是一种高密度的磁记录方式.从实用的角度出发,逢坂弥哲在1981年提出了用化学镀方法制备CoNiMnP垂直磁化膜;薄膜的磁结构对其磁记录性能具有直接影响.磁力显微镜(MFM)是扫描探针显微术(SPM)的一种,通过控制磁性针尖在样品表面的扫描可获得表面磁场信息,它被较多地应用于研究磁头和磁盘或其他存储介质上的数据位结构,例如数据位的大小和形状、介质噪音、重写和材料承受高密度存储的能力,获得有关磁头性能及存储介质质量的的信息,分辨率优于25nm.MFM的一个主要优点是不需要特殊的样品制备技术,甚至样品表面可以裹镀非磁性薄层.我们根据多年研究制定的工艺参数,镀制了几种不同的CoNiMnP膜,对其形貌、磁性能等作了观察和分析,并用MFM观察和分析了这
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| 关 键 词： | 化学镀 垂直磁化 MFM 磁膜 磁记录 钴合金 |
| 收稿时间： | 1994-12-22 |
| 修稿时间： | 1995-07-18 |
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