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薄膜生成过程的计算机模拟研究
作者姓名:于工 岳国珍
作者单位:[1]青岛化工学院信息系 [2]中科院半导体所
摘    要:根据多种制膜方法的共同点建立模型,用微机模拟源物质粒子在靶衬底上沉积成膜的全过程,研究了影响薄膜质量的工艺条件,如沉积速率、衬底温度等因素在微观成膜过程中所表现出来的物理细节及其规律。

关 键 词:薄膜物理 计算机模拟 膜生长
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