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射频等离子体化学气相沉积择优取向膜的研究
作者姓名:谢雁 李世直
摘    要:用射频等离子体沉积择优取向的TiN膜,用X-衍射的方法分析影响取向的原因。

关 键 词:氮化钛膜 等离子体 化学气相沉积 表面处理
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