| 衬底材料对直接光化学汽相淀积类金刚石碳膜成膜初期的影响 |
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| 引用本文： | 石瑞英,杜开瑛,谢茂浓,张敏,廖伟. 衬底材料对直接光化学汽相淀积类金刚石碳膜成膜初期的影响[J]. 四川大学学报(自然科学版), 1999, 36(1): 61-66 |
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| 作者姓名： | 石瑞英 杜开瑛 谢茂浓 张敏 廖伟 |
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| 作者单位： | 四川大学物理系 |
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| 摘 要： | 以微波激励氙（Ｘｅ）发射的真空紫外（ＶＵＶ）光作光源，乙炔（Ｃ２Ｈ２）作反应气体，氮（Ｎ２）、氩（Ａｒ）和氢（Ｈ２）气为稀释气体，采用直接光化学汽相淀积（ＣＶＤ）工艺，在硅（Ｓｉ）、钼（Ｍｏ）及玻璃衬底上进行了类金刚石碳（ＤＬＣ）膜的淀积生长。通过光电子能谱（ＸＰＳ）和扫描电子显微镜（ＳＥＭ）的测试与观察，研究了在同样工艺条件下不同衬底材料对ＤＬＣ膜成膜初期碳原子的吸附、凝聚及成核过程。实验结果表
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| 关 键 词： | 光化学汽相淀积 类金刚石膜 衬底材料 VUV CVD |
THE INFLUENCE OF SUBSTRATE MATERIALS ON PROPERIES OF PRIMARY DIAMOND LIKE CARBON FILMS PREPARED BY DIRECT PHOTO CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD |
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| Shi Ruiying Du Kaiying Xie Maonong Zhang Min Liao Wei. THE INFLUENCE OF SUBSTRATE MATERIALS ON PROPERIES OF PRIMARY DIAMOND LIKE CARBON FILMS PREPARED BY DIRECT PHOTO CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD[J]. Journal of Sichuan University (Natural Science Edition), 1999, 36(1): 61-66 |
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| Authors: | Shi Ruiying Du Kaiying Xie Maonong Zhang Min Liao Wei |
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| Keywords: | VUV photo CVD DLC films XPS SEM |
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