首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

全氢聚硅氮烷浸渍裂解法制备高性能3D SiO2/Si3N4复合材料
引用本文:齐共金,张长瑞,胡海峰,曹峰,王思青,姜勇刚.全氢聚硅氮烷浸渍裂解法制备高性能3D SiO2/Si3N4复合材料[J].中国科学(E辑),2005,35(11):1121-1126.
作者姓名:齐共金  张长瑞  胡海峰  曹峰  王思青  姜勇刚
作者单位:国防科技大学航天与材料工程学院新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室,长沙,410073
摘    要:以低黏度、润湿性好、陶瓷产率高的全氢聚硅氮烷为陶瓷先驱体, 通过多次浸渍-固化-裂解工艺制备了高性能三维石英织物增强氮化硅复合材料. 随着裂解温度的提高(从T1, T2到TT3), 复合材料密度逐渐增加, 而弯曲强度先增后减. 在裂解温度T2时, 先驱体具有较好的陶瓷化程度, 所制备的复合材料弯曲强度高达144.9 MPa, 且介电性能优良. 这些高性能源于较小的石英纤维损伤, 良好的纤维/基体界面微结构和高纯度致密氮化硅基体.

关 键 词:陶瓷先驱体  氮化硅  复合材料  高性能  石英纤维
收稿时间:2005-04-05
修稿时间:2005-04-052005-07-22
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《中国科学(E辑)》浏览原始摘要信息
点击此处可从《中国科学(E辑)》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号