ＭＥＶＶＡ 离子束技术的发展及应用

金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体．通过二或三电极引出系统，可以把金属等离子体中的 金属离子引出，并加速成为载能的金属离子束，这是 ＭＥＶＶＡ 离 子 源 技 术．将 载 能 离 子 束 用 于 离 子 注 入，可 以 实 现 材 料 表面改性．经过 ＭＥＶＶＡ 源离子注入处理的工具和零部件，改性效果显著，因此 ＭＥＶＶＡ 离子源在离子注入材料表面改 性技术中得到很好的应用．另一方面，利用弯曲磁场把等离子体导向到视线外的真空靶室中的同 时，过 滤 掉 真 空 弧 产 生 的液滴（大颗粒），当工件加上适当的负 偏 压 时，等 离 子 体 中 的 离 子 在 工 件 表 面 沉 积，可 以 得 到 高 质 量 的、平 整 致 密 的 薄 膜，称为磁过滤等离子体沉积．是一种先进的薄膜制 备 的 新 技 术．此 外，将 ＭＥＶＶＡ 离 子 注 入 与 磁 过 滤 等 离 子 体 沉 积 相 结合的复合技术，可以首先用离子注入的方法改变基材表面的性能，再用磁过滤等离子体沉积的 方 法 制 备 薄 膜，可 以 极 大的增强薄膜与基材的结合强度，得到性能极佳的薄膜．适用于基材与薄膜性能差别大，结合不 易 的 情 况（例 如 陶 瓷、玻 璃表面制备金属膜）．本文简要介绍了 ＭＥＶＶＡ 离子注入技术、磁过滤等离子体沉积技术和 ＭＥＶＶＡ 复合技术的发展和 应用状况 

DEVELOPMENT AND APPLICATION OF MEVVA TECHNIQUE AT BNU:A REVIEW