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| 基板温度对电子束沉积LaF3薄膜紫外性能的影响 | |
| 作者姓名： | 张锋 郝殿中 |
| 作者单位： | 1. 曲阜师范大学学报编辑部,山东,曲阜,273165 2. 山东省激光偏光与信息技术重点实验室,曲阜师范大学激光研究所,山东,曲阜,273165 |
| 摘 要： | 采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF<,3>单层膜.研究了基板温度对LaF<,3>薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分析结果表明:在本实验条件下,薄膜的折射率随温度的升高而增大;消光系数随... |
| 关 键 词： | 光学薄膜 基板温度 电子束沉积 LaF3 |
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