|
|||||
|
|
| 基于着色器的LOD纹理混合与反走样平滑过渡关键技术研究 | |
| 作者姓名： | 姜展 李梅 孙振明 毛善君 |
| 作者单位： | 1. 北京大学遥感与地理信息系统研究所, 北京 100871 2. 中国矿业大学(北京)能源与矿业学院, 北京 100083 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(51774281);;国家重点研发计划(2016YFC0803108)资助; |
| 摘 要： | 针对场景切换时产生的LOD(level of detail)纹理突变和走样问题,提出一种基于着色器的LOD纹理混合与反走样平滑过渡算法.该算法根据三维模型和视点的距离,运用基于Alpha测试的不透明蒙版算法和加权邻帧反走样算法,在LOD间生成过渡材质,实现三维模型LOD切换的平滑过渡,不仅能够改善纹理质量,而且能够保证... |
| 关 键 词： | 纹理突变 LOD平滑过渡 Alpha测试 几何走样 着色走样 时间反走样(TAA) |
| 收稿时间： | 2021-01-25 |
| 点击此处可从《北京大学学报(自然科学版)》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《北京大学学报(自然科学版)》下载全文 | |