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| Ar等离子体清洗Cu箔靶的实验研究 | |
| 引用本文： | 陆晓曼,吴卫东,孙卫国,张继成,郭强,唐永建. Ar等离子体清洗Cu箔靶的实验研究[J]. 四川大学学报(自然科学版), 2008, 45(2): 367-370 |
| 作者姓名： | 陆晓曼 吴卫东 孙卫国 张继成 郭强 唐永建 |
| 作者单位： | 1. 四川大学原子与分子物理研究所,成都,610065;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900 3. 四川大学原子与分子物理研究所,成都,610065 4. 四川大学物理科学与技术学院,成都,610064 |
| 摘 要： | 极薄的铜箔是惯性约束聚变中常用的靶材之一,要求密度达到晶体理论密度、表面洁净、粗糙度低、润湿性好,用常规方法清洗厚度在2 μm及以下的铜箔,难以达到要求.本实验采用Ar等离子体清洗2μm厚的铜箔,比较研究了Ar等离子清洗和常规清洗的不同,且对不同条件下清洗铜箔的表面性质进行研究.实验结果表明,常规有机溶剂清洗的铜箔,表面有微量的油污残留,暴露在空气中易氧化,经Ar等离子体清洗的铜箔,表面洁净、暴露在空气中不易氧化,Ar等离子体清洗-0～20 min,表面性质最佳,清洗彻底,润湿角明显减小(减小近20°),表面自由能增大(增大18.5%)、表面光洁度满足制靶要求. |
| 关 键 词： | 表面处理 Ar等离子体清洗 接触角 去油污 等离子体 实验 研究 plasma cleaning target foil 表面光洁度 表面自由能 润湿角 最佳 易氧化 空气 暴露 残留 油污 微量 溶剂清洗 结果 表面性质 |
| 文章编号： | 0490-6756(2008)02-0367-04 |
| 修稿时间： | 2007-10-26 |
The study of cu foil target cleaning by Ar plasma |
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| LU Xiao-Man,WU Wei-Dong,SUN Wei-Guo,ZHANG Ji-Cheng,GUO Qiang,TANG Yong-Jian. The study of cu foil target cleaning by Ar plasma[J]. Journal of Sichuan University (Natural Science Edition), 2008, 45(2): 367-370 | |
| Authors: | LU Xiao-Man WU Wei-Dong SUN Wei-Guo ZHANG Ji-Cheng GUO Qiang TANG Yong-Jian |
| Affiliation: | Institute of Atomic and Molecular Physics, Sichuan University;Research Center of Laser Fusion, CAEP;Institute of Atomic and Molecular Physics, Sichuan University;Research Center of Laser Fusion, CAEP;School of Physical Science and Technology, Sichuan University;Research Center of Laser Fusion, CAEP |
| Abstract: | |
| Keywords: | treatment of surface cleaning of argon plasma contact remove oil |
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