| TiN/TiN+Si/TiN多层膜的高温微动磨损行为研究 |
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| 作者姓名： | 何其荣 刘捍卫 夏云 朱旻昊 |
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| 作者单位： | 西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室,成都,610031;四川成都工具研究所,成都,610051 |
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| 基金项目： | ]教育部科学技术研究重点项目(106137);核燃料及材料国家级重点实验室基金(51481070104QT2201) |
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| 摘 要： | 用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法在T225NG钛合金基体上制备出厚度约为6μm的TiN/TiN+Si/TiN多层膜,重点研究了多层膜及钛合金基材在室温和高温条件下的微动磨损行为,采用激光共焦扫描显微镜测定磨损体积,用扫描电子显微镜观察磨痕微观形貌.结果表明：在室温(25 ℃)至400 ℃范围内,微动初期和稳定阶段多层膜的摩擦系数比钛合金基体低,磨损体积也比钛合金基材明显降低;多层膜磨损体积随着温度的升高而增大;多层膜可以显著降低钛合金基材的磨损;多层膜的损伤主要表现为剥层和磨粒磨损形式.
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| 关 键 词： | 微动磨损 温度 TiN/TiN+Si/TiN多层膜 等离子体增强化学气相沉积(PCVD) 钛合金 |
| 文章编号： | 0490-6756（2008）01-0156-05 |
| 收稿时间： | 2007-04-17 |
| 修稿时间： | 2007-12-06 |
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