CrMoN复合薄膜耐腐蚀性能研究

采用磁控溅射法在304不锈钢衬底上制备CrMoN复合薄膜，通过调控Mo靶溅射功率来改变复合膜中Mo元素含量。分别采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)和电化学工作站对薄膜的晶体结构、表面形貌、元素掺杂量及薄膜耐腐蚀性能进行了表征。结果表明CrMoN薄膜呈现面心立方结构，Mo靶功为20 W时，薄膜表面最为致密，Mo靶功率升高到40 W时表面呈现出三棱锥状，继续升高到60 W和80 W,薄膜表面形貌为花椰菜结构，并且出现微裂纹。Mo靶功率为20 W时，薄膜在NaCl溶液中腐蚀的开路电位为0.14 V,腐蚀电位为0.128 V,腐蚀电流密度为-4.881×10^-10A/cm²。结果表明Mo靶功率为20W时薄膜具有最佳的耐腐蚀性。