| 电化学沉积纳米多层膜研究 |
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| 引用本文： | 陶景光,廖兆曙,冯继军,彭喜英.电化学沉积纳米多层膜研究[J].武汉科技学院学报,2003,16(1):32-35. |
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| 作者姓名： | 陶景光 廖兆曙 冯继军 彭喜英 |
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| 作者单位： | 华中科技大学,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 湖北省自然科学基金资助项目(鄂基 99 J 23). |
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| 摘 要： | 用电化学沉积法和自制的微机数控电化学电源，在半导体硅片等衬底上成功制备出Cu/Co等组分调制多层膜，利用EPMA、SEM、STM（AFM）、TEM多种方法表征其微结构。电化学沉积实验表明，在较高过电压、较低电流密度和较低PH（＝1．8）等条件下，能获得GMR≥8％的纳米多层膜。
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| 关 键 词： | 电化学沉积 纳米多层膜 巨磁阻效应 结构表征 表面微结构 制备工艺 |
| 文章编号： | 1009-5160(2003)01-0032-04 |
| 修稿时间： | 2002年10月22 |
Manufacture and Characterization for Nano-structure Multi-layer by Electro-deposition |
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| TAO Jing-guang,LIAO Zhao-shu,FENG Ji-jun,PENG Xi-ying.Manufacture and Characterization for Nano-structure Multi-layer by Electro-deposition[J].Journal of Wuhan Institute of Science and Technology,2003,16(1):32-35. |
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| Authors: | TAO Jing-guang LIAO Zhao-shu FENG Ji-jun PENG Xi-ying |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Electro-Chemical Deposition Nano-Multilayer Film Grant Magnetic Resistance |
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