3%NaCl溶液中碳—铜短路体系接触腐蚀机理 |
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引用本文: | 郭稚弧.3%NaCl溶液中碳—铜短路体系接触腐蚀机理[J].华中理工大学学报,1993,21(6):183-186. |
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作者姓名: | 郭稚弧 |
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摘 要: | 应用旋转圆盘电极(RDE)法、浸渍腐蚀试验法及腐蚀表面的X射线衍射分析法研究了3%NaCl溶液中碳-铜短路接触腐蚀的机理。结果表明,该腐蚀属O2去极化腐蚀,其阴极去极化反应一般为扩散控制。在与腐蚀电流相对应的电位区内,在碳电极上O2的阴极还原电流密度约为铜电极上的还原电流密度的二倍,并且,由于碳膜的存在,在铜表面上形成了铜氧化物-铜电偶,因而促进了铜的腐蚀。
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关 键 词: | 碳-铜电偶 接触腐蚀 旋转圆盘电极 |
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