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| 高温热退火时异质结薄膜CeO2／Si界面扩散—反应的？… | |
| 引用本文： | 吴正龙,李强胜.高温热退火时异质结薄膜CeO2／Si界面扩散—反应的？…[J].北京师范大学学报(自然科学版),1999,35(3):332-335. |
| 作者姓名： | 吴正龙 李强胜 |
| 作者单位： | [1]北京师范大学分析测试中心 [2]北京师范大学物理学系 |
| 摘 要： | 基于ＣｅＯ２／Ｓｉ异质结在氧气氛下高温退火界面存在扩散反应过程，建立了扩散－反应方程。对有关的实测数据进行了计算机拟合，其结果与实验能很好吻合。不同温度下的拟合结果还表明，异质结界面处Ｏ．Ｃｅ，Ｓｉ扩散系数及Ｓｉ的氧化反应系数的随温度指数上升，并计算出扩散反应激活能。 |
| 关 键 词： | 高温 异质结 薄膜 扩散反应 氧化铈 硅 热退火 |
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