| 沉积温度对磁控溅射镀钌薄膜微观结构和附着力的影响 |
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| 作者姓名： | 王盼 潘应君 洪波 徐源源 杨林 |
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| 作者单位： | 武汉科技大学材料与冶金学院,湖北 武汉,430081,武汉科技大学材料与冶金学院,湖北 武汉,430081,武汉科技大学材料与冶金学院,湖北 武汉,430081,武汉科技大学材料与冶金学院,湖北 武汉,430081,武汉科技大学材料与冶金学院,湖北 武汉,430081 |
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| 摘 要： | 采用中频磁控溅射技术在钼圆片表面镀覆钌薄膜,通过X射线衍射仪、扫描电镜、平整度仪、宏观浸蚀试验和百格测试等对镀层进行表征和检测,研究不同沉积温度对薄膜微观结构和附着力的影响。结果表明,随着沉积温度由室温升至200℃,钌薄膜的表面平整性和致密性逐步改善,附着力得以提高;200℃沉积薄膜的膜/基结合力最大,其微观结构、致密性等也均达到最优;但当沉积温度进一步提高到300℃时,钌薄膜的表面起伏反而增大,附着力有所下降。
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| 关 键 词： | 钌薄膜 钼基片 磁控溅射 镀膜 沉积温度 附着力 微观结构 |
| 收稿时间： | 2016/10/9 0:00:00 |
Effect of deposition temperature on microstructure and adhesion of ruthenium film plated by magnetron sputtering |
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| Authors: | Wang Pan Pan Yingjun Hong Bo Xu Yuanyuan and Yang Lin |
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| Affiliation: | College of Materials Science and Metallurgical Engineering, Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China,College of Materials Science and Metallurgical Engineering, Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China,College of Materials Science and Metallurgical Engineering, Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China,College of Materials Science and Metallurgical Engineering, Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China and College of Materials Science and Metallurgical Engineering, Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ruthenium film molybdenum substrate magnetron sputtering coating film deposition temperature adhesion microstructure |
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