首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

用三角波电压扫描(TVS法)测量二氧化硅层中可动离子的沾污
引用本文:张久惠,高嵩.用三角波电压扫描(TVS法)测量二氧化硅层中可动离子的沾污[J].辽宁大学学报(自然科学版),1985(2).
作者姓名:张久惠  高嵩
摘    要:本文介绍了用三角波电压扫描(TV5)法测量SiO_2层中可动离子的一般方法。它具有测试方法简便,测试结果直观的优点,可作为检测氧化层质量的一种测试手段。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号