首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

聚吡咯修饰电极测定抗坏血酸的研究
引用本文:赵丹庆,孙占才.聚吡咯修饰电极测定抗坏血酸的研究[J].内蒙古民族大学学报(自然科学版),2005,20(1):33-35.
作者姓名:赵丹庆  孙占才
作者单位:内蒙古民族大学,化学学院,内蒙古,通辽,028043
摘    要:对掺铁氰根聚吡咯电极的聚合、伏安行为、电催化效应及其在抗坏血酸测定中的应用进行了研究.该膜电极性能稳定,对抗坏血酸催化效果好,抗坏血酸浓度在5×10-6~6×10-3 mol/l范围内有很好的线性关系,用于测定果汁饮料中抗坏血酸获得满意结果.

关 键 词:掺铁氰根聚吡咯  化学修饰电极  抗坏血酸
文章编号:1671-0185(2005)01-0033-03
修稿时间:2003年3月6日

Study on Determination of Ascorbic Acid by Polypyrrole Modified Electrode
ZHAO Dan-qing,SUN Zhan-cai.Study on Determination of Ascorbic Acid by Polypyrrole Modified Electrode[J].Journal of Inner Mongolia University for the Nationalities(Natural Sciences),2005,20(1):33-35.
Authors:ZHAO Dan-qing  SUN Zhan-cai
Abstract:
Keywords:Polypyrrole dopping ferrocyanide  Chemically modified electrode  Ascorbic acid
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号