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工业五氧化二钒制备V2O5半导体薄膜分析
引用本文:杨绍利 陈厚生 等. 工业五氧化二钒制备V2O5半导体薄膜分析[J]. 重庆大学学报(自然科学版), 2002, 25(5): 97-100
作者姓名:杨绍利 陈厚生 等
作者单位:[1]重庆大学材料科学与工程学院,重庆400044 [2]攀枝花钢铁研究院,四川攀枝花617000
摘    要:用攀钢工业V2O5为原料采用无机溶胶-凝胶法制备V2O5溶胶和凝胶,并用此胶体不同衬底上制备出透明的半导体V2O5薄膜。研究了胶体粘度对涂膜的影响,以及薄膜电阻率与温度、烘干处理和厚度的关系。用扫描电子显微镜(SEM)研究了薄膜的微观形貌,用XRD研究了薄膜的成份及其变化。结果表明:胶体粘度对涂膜有较大影响;温度、湿份、薄膜厚度对薄膜电阻率均有较大影响;V2O5薄膜由针状V2O5颗粒组成,在衬度上呈均匀分布,且结构比较密集,其颗粒径向尺寸为0.5-1.0μm,长度方向为3.0-5.0μm。烘干处理后颗粒轮廓略有模糊、结构稀疏且尺寸有所长大,同时新生成了一些钒化合物。

关 键 词:V2O5 溶胶-凝胶法 薄膜 电阻率
文章编号:1000-582X(2002)05-0097-04

Preparation of V2O5 Semiconductor Thin Films From Induststrial V2O5
YANG Shao li,XU Chu shao,CHEN Hou Sheng,HU Zai yong. Preparation of V2O5 Semiconductor Thin Films From Induststrial V2O5[J]. Journal of Chongqing University(Natural Science Edition), 2002, 25(5): 97-100
Authors:YANG Shao li  XU Chu shao  CHEN Hou Sheng  HU Zai yong
Affiliation:YANG Shao li 1,XU Chu shao 1,CHEN Hou Sheng 2,HU Zai yong 1
Abstract:
Keywords:V 2O 5  sol-gel method  thin film  resistivity
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