铋薄膜的制备及表面显微结构表征

本文利用高真空热蒸发方法，通过调节加热电流、改变蒸发时间和观察石英晶振频率来控制薄膜的生长速度，在硅（111）表面上制备了各种厚度的半金属铋薄膜样品。分别用原子力显微镜（AFM）和扫描电子显微镜（SEM）研究了半金属铋薄膜的表面形貌，颗拉尺寸和形状特征。结果表明：只有在适当的沉积时间里，才可以制备出表面平滑、结构致密的薄膜。在薄膜表面可以清晰的看到类三角锥形结构的铋微晶，表明生长得到的铋薄膜的结构具有三角轴择优取向。