首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

等离子体增强化学气相沉积Ti—Si—N膜
引用本文:石玉龙,彭红瑞.等离子体增强化学气相沉积Ti—Si—N膜[J].青岛化工学院学报(自然科学版),1995,16(1):59-64.
作者姓名:石玉龙  彭红瑞
摘    要:

关 键 词:等离子体  化学气相沉积  氮化钛  氮化硅钛  硬膜
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号