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新型Ni-Cu复合镀层的制备
引用本文:楚广,刘生长. 新型Ni-Cu复合镀层的制备[J]. 中南大学学报(自然科学版), 2007, 38(3): 474-479
作者姓名:楚广  刘生长
作者单位:中南大学冶金科学与工程学院 湖南长沙410083
摘    要:采用复合电镀方法,在镀镍液中加入粒径为5~10μm的铜微粒(晶粒粒径为52 nm)制备Ni-Cu复合镀层,探讨阴极电流密度、镀液的pH值与温度、搅拌速度、铜微粒含量和镍离子浓度对Ni-Cu复合镀层中铜微粒共析量的影响。结果表明,最佳镀液组成和工艺参数如下:七水合硫酸镍250~300 g/L,六水合氯化镍30~60 g/L,硼酸35~40 g/L,十二烷基硫酸钠0.05~0.1 g/L,pH值3.5~4.0,温度55~60℃,阴极电流密度2~3 A/dm2,搅拌速度为500~600 r/min,铜粉质量浓度8~9 g/L;镀层致密且铜微粒分布均匀;Ni-Cu复合镀层中铜的质量分数在5%~30%之间,其显微硬度HV0.2在450~750之间,且随镀层中铜含量的增大而增大,表现出高硬度的特点。

关 键 词:    复合电沉积  制备
文章编号:1672-7207(2007)03-0474-06
修稿时间:2006-09-30

Preparation of Ni-Cu composite coating by composite electroplating
CHU Guang,LIU Sheng-zhang. Preparation of Ni-Cu composite coating by composite electroplating[J]. Journal of Central South University:Science and Technology, 2007, 38(3): 474-479
Authors:CHU Guang  LIU Sheng-zhang
Affiliation:School of Metallurgical Science and Engineering, Central South University, Changsha 410083, China
Abstract:
Keywords:copper  nickel  composite electrodeposition  preparation
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