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铝分层诱导晶化非晶硅的研究
引用本文:孙钦钦,王鹏,陈松岩,李成,黄巍.铝分层诱导晶化非晶硅的研究[J].厦门大学学报(自然科学版),2014,53(5):704-710.
作者姓名:孙钦钦  王鹏  陈松岩  李成  黄巍
作者单位:厦门大学物理与机电工程学院,福建厦门,361005
基金项目:国家自然科学基金,福建省自然科学基金
摘    要:铝诱导晶化(AIC)法是一种低成本、低温制备高质量多晶硅薄膜的方法.采用磁控溅射和自然氧化法在石英衬底上生长铝/三氧化二铝/非晶硅结构的材料,然后进行低温(低于硅铝共熔温度577℃)退火处理.通过共焦显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)和X射线衍射(XRD)手段进行表征.结果表明,退火后薄膜分为两层,上层是铝、非晶硅和多晶硅的连续混合膜,随退火时间增加,上层晶化率快速增加;下层形成了完全晶化的大尺寸多晶硅晶粒,晶粒结晶质量接近单晶硅;增加退火时间,下层晶粒增长很缓慢;降低退火温度,下层晶粒尺寸明显增大;形成的多晶硅薄膜均具有高度(111)择优取向.并且,进一步地对上述退火过程中样品的变化行为作出分析.

关 键 词:铝诱导晶化  双层结构  择优取向

Study of Stratified Crystallization of Amorphous Silicon Induced by Aluminum
SUN Qin-qin,WANG Peng,CHEN Song-yan,LI Cheng,HUANG Wei.Study of Stratified Crystallization of Amorphous Silicon Induced by Aluminum[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2014,53(5):704-710.
Authors:SUN Qin-qin  WANG Peng  CHEN Song-yan  LI Cheng  HUANG Wei
Institution:SUN Qin-qin;WANG Peng;CHEN Song-yan;LI Cheng;HUANG Wei;School of Physics and Mechanical & Electrical Engineering,Xiamen University;
Abstract:
Keywords:aluminum induced crystallization  bilayer structure  preferential orientation
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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