| 高温氧化膜Cr2O3和NiO中应力松弛过程 |
| |
| 引用本文： | 杨于兴 卞玉君. 高温氧化膜Cr2O3和NiO中应力松弛过程[J]. 上海交通大学学报, 1998, 32(2): 57-61 |
| |
| 作者姓名： | 杨于兴 卞玉君 |
| |
| 作者单位： | 上海交通大学国家教委高温材料及高温测试开放实验室 |
| |
| 摘 要： | 用Ｘ射线原位应力测定了高温氧化膜Ｃｒ２Ｏ３和ＮｉＯ中的应力．结果表明，Ｃｒ２Ｏ３／Ｃｒ和ＮｉＯ／Ｎｉ体系氧化膜的生长应力分别为－１．９４９ＧＰａ和６５２ＭＰａ．在冷却过程中，Ｃｒ２Ｏ３／Ｃｒ体系发生很大的应力松弛过程，其主要表现形式为氧化膜翘曲和开裂；而在ＮｉＯ／Ｎｉ体系中，由于ＮｉＯ薄膜具有双层结构承受不同应力状态而获得松弛．
|
| 关 键 词： | 原位X射线应力测定；生长应力；热应力；应力松弛 |
Stresses Relaxation in Cr 2O 3 and NiO during High Temperature Oxidation by in Situ X ray Diffraction |
| |
| Affiliation: | (Open Laboratory of State Education Commission for High Temperature Materials and Testing,Shanghai Jiaotong University) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | stress measurement by in situ X ray diffraction growth stress thermal stress stress relaxation |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
