| N+离子注入Ti-4Al-2V合金的表面分析研究 |
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| 引用本文： | 邓炯,封向东,吴继红,王治国,祖小涛. N+离子注入Ti-4Al-2V合金的表面分析研究[J]. 四川大学学报(自然科学版), 2004, 41(4): 784-787 |
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| 作者姓名： | 邓炯 封向东 吴继红 王治国 祖小涛 |
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| 作者单位： | 四川大学物理系,成都,610064;电子科技大学物理电子学院应用物理系,成都,610054 |
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| 摘 要： | 作者采用3×1017/cm2和8×1017cm2两种注量对Ti-4Al-2V合金样品进行了N+离子注入,N离子能量75keV,在注入过程中样品温度控制在200℃以下.对注入前后的样品进行了X射线衍射(XRD)以及光电子能谱(XPS)分析.由XRD衍射谱表明,离子注入后有新相TiN和TiO2生成.由XPS宽程扫描谱表明,注入后样品表面主要为Ti,C,N和O.对Ti2p和N1s的XPS窄程扫描谱也证明,离子注入后致使合金近表面形成了TiN和TiO2.
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| 关 键 词： | Ti-4AL-2V合金 离子注入 XRD XPS |
| 文章编号： | 0490-6756(2004)04-0784-04 |
XPS and XRD Investigation on N+ Ion Implantation in a Ti-4Al-2V Alloy |
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| DENG Jiong ,FENG Xiang-dong ,WU Ji-hong ,WANG Zhi-guo ,ZU Xiao-tao. XPS and XRD Investigation on N+ Ion Implantation in a Ti-4Al-2V Alloy[J]. Journal of Sichuan University (Natural Science Edition), 2004, 41(4): 784-787 |
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| Authors: | DENG Jiong FENG Xiang-dong WU Ji-hong WANG Zhi-guo ZU Xiao-tao |
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| Affiliation: | DENG Jiong 1,FENG Xiang-dong 1,WU Ji-hong 2,WANG Zhi-guo 2,ZU Xiao-tao 2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ti-4Al-2V alloy ion implantation XPS XRD |
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