| 蒸发镀膜机改制平面磁控溅射镀膜机的研制 |
| |
| 引用本文： | 仲永安,张怀武.蒸发镀膜机改制平面磁控溅射镀膜机的研制[J].陕西师范大学学报,1990(2). |
| |
| 作者姓名： | 仲永安 张怀武 |
| |
| 作者单位： | 陕西师范大学物理系，陕西师范大学物理系 |
| |
| 摘 要： | 1 磁控溅射机理为了克服二极溅射淀积速率低及基片温度高两大缺点,笔者在蒸发镀膜机二极靶的后面加适当形状的磁铁,使其在靶面形成水平磁场。这样,处于辉光放电阴极区的电子,同时受到电场力和洛仑磁力作用,作旋轮线运动,电子运动路径大大增加,碰撞电离机会增多,
|
| 关 键 词： | target magnetic control sputtering Ⅰ-Ⅴ curve evaporation |
The Fabrication of Plane Magnetic Control Machine from Evaporation Coating Machine |
| |
| Zhong Yongan Zhang Huaiwu.The Fabrication of Plane Magnetic Control Machine from Evaporation Coating Machine[J].Journal of Shaanxi Normal University: Nat Sci Ed,1990(2). |
| |
| Authors: | Zhong Yongan Zhang Huaiwu |
| |
| Institution: | Department of Physics |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
|
