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| TiO2薄膜的光催化特性 | |
| 引用本文： | 李文漪,李文军,武正簧,赵君芙,孙彦平,蔡珣.TiO2薄膜的光催化特性[J].上海交通大学学报,2002,36(1):1-4. |
| 作者姓名： | 李文漪 李文军 武正簧 赵君芙 孙彦平 蔡珣 |
| 作者单位： | 1. 上海交通大学,教育部高温材料及高温测试开放实验室,上海,200030 2. 上海交通大学,信息存储研究中心,上海,200030 3. 太原理工大学,应用化学系,太原,030024 |
| 摘 要： | 低压利用四异丙醇钛水解法制备了TiO2薄膜，将TiO2固定化并尽可能保留其尺寸效应，联系制膜条件和膜的表性，研究了TiO2薄膜的光催化活性，利用Raman,XRD，AFM和UVvis等手段探讨了不同膜厚，晶型，衬底对膜催化活性的影响，结果表明，随着衬底温度的升高，TiO2由非晶型转变为锐钛矿，光催化活性提高，随着TiO2薄膜厚度的增加，催化活性降低，在玻片，Si,SnO2，Al为基片所制TiO2薄膜中，以Al为基片的TiO2薄膜的光催化活性最好。 |
| 关 键 词： | TiO2 薄膜 光催化特性 低压化学气相沉积 二氧化钛 |
| 文章编号： | 1006-2467(2002)01-0001-04 |
| 修稿时间： | 2001年6月19日 |
Photocatalytic Characteristics of TiO2 Thin Film Deposited with Chemical Vapour Deposition |
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| LI Wen yi ,LI Wen jun ,WU Zheng huang ,ZHAO Jun fu ,SUN Yan ping ,CAI Xun.Photocatalytic Characteristics of TiO2 Thin Film Deposited with Chemical Vapour Deposition[J].Journal of Shanghai Jiaotong University,2002,36(1):1-4. | |
| Authors: | LI Wen yi LI Wen jun WU Zheng huang ZHAO Jun fu SUN Yan ping CAI Xun |
| Institution: | LI Wen yi 1,LI Wen jun 2,WU Zheng huang 3,ZHAO Jun fu 3,SUN Yan ping 3,CAI Xun 1 |
| Abstract: | Using titanium tetraisopropoxide (TTIP) as precursor, a TiO 2 thin film was prepared by low pressure chemical vapour deposition (LPCVD). The titanium dioxide was fixed, and the size effect of the photocatalyst was retained as much as possible. The influence of process condition on the properties of TiO 2 films was studied. The use of LPCVD TiO 2 film for the photocatalytic degradation of an organic compound phenol was investigated. The effect of crystalline structure, thickness, substrates on catalyst activity was also researched. |
| Keywords: | low pressure chemical vapour deposition (LPCVD) titanium dioxide photocatalysis |
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