等离子体化学气相法沉积金刚石的进展 |
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引用本文: | 郑怀礼. 等离子体化学气相法沉积金刚石的进展[J]. 大自然探索, 1998, 17(2): 53-57 |
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作者姓名: | 郑怀礼 |
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作者单位: | 重庆建筑大学基础科学系 |
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摘 要: | 本文评述了化学相沉积法制备人造金刚石薄膜的进展情况。重点评述反应机理,发展历史,沉积方法,衬底材料,检测手段。讨论了有利于形成立方晶系金刚石材料的沉积条件。
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关 键 词: | 金刚石薄膜 化学气相沉积 等离子体 CVD |
DEPOSITION DEVELOPMENTS OF DIAMOND FILMS BY PLASMA CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION |
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Abstract: | |
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Keywords: | diamond film chemical vapour deposition plasma |
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