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用XPS对激活过程中的GaAs光电阴极的表面分析
引用本文:黄振武,冯敦平.用XPS对激活过程中的GaAs光电阴极的表面分析[J].福州大学学报(自然科学版),1990(2):18-23.
作者姓名:黄振武  冯敦平
作者单位:福州大学物理系 (黄振武),福州大学物理系(冯敦平)
基金项目:国家自然科学基金的资助
摘    要:对GaAs光电阴极激活过程中各阶段做了X射线光电子谱(XPS)表面分析,根据XPS分析所得数据,改进了激活工艺,提出了获得更好发射性能的光电阴极的最佳Cs和O2量,并提出了Cs和O2在GaAs表面排列的模型.

关 键 词:XPS  GaAS  光电阴极

Surface Analysis of the GaAs Photocathode by XPS During Activation
Huang Zhenwu,Feng Dunping.Surface Analysis of the GaAs Photocathode by XPS During Activation[J].Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition),1990(2):18-23.
Authors:Huang Zhenwu  Feng Dunping
Institution:Department or Physics
Abstract:The GaAs photocathode surface has been studied by XPS in every stage of activation. Basing on the XPS data, we have improved the activation technology, suggested the optimum amount of Cs and O2 for photocathodes of better emmission properties, and proposed a model of Cs and O2 arrangement on the GaAs surface.
Keywords:XPS  GaAs  photocathode
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