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光刻机运动控制与网络监控技术研究
引用本文:黄沿江,郭隐彪,薛波.光刻机运动控制与网络监控技术研究[J].厦门大学学报(自然科学版),2008,47(3):365-369.
作者姓名:黄沿江  郭隐彪  薛波
作者单位:厦门大学物理与机电工程学院,福建,厦门,361005
摘    要:光刻机是IC器件制造的关键设备之一,其工件台的高速度和高定位精度是获得高质量光刻和高效率的重要条件.本文通过对光刻机工件台运动速度模式、运动轨迹和定位误差补偿以及现代运动控制技术和网络监控技术的研究,应用运动控制器强大的计算能力,实现优化的速度模式和运动轨迹;应用电机编码器和直尺光栅作为反馈器件,实现全闭环控制;应用基于TCP/UDP协议的远程控制和视频监控技术,实现交互式的远程监控.在Windows操作系统下,用Visaul C 开发工具完成了控制系统的软件开发.实验结果表明,该系统能使工件台的定位精度达到±1 μm,并具有较高的工作效率,体现了较高的应用价值.

关 键 词:运动控制技术  定位精度  网络监控  工件台  光刻机  运动控制  网络监控  技术研究  Wafer  Monitoring  Network  Technology  价值  工作效率  定位精度  控制系统  结果  实验  软件开发  开发工具  Visaul  操作系统  Windows  远程监控
文章编号:0438-0479(2008)03-0365-05
修稿时间:2007年10月12

Research on the Technology of Motion-control and Network Monitoring in Wafer Stepper
HUANG Yan-jiang,GUO Yin-biao,XUE Bo.Research on the Technology of Motion-control and Network Monitoring in Wafer Stepper[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2008,47(3):365-369.
Authors:HUANG Yan-jiang  GUO Yin-biao  XUE Bo
Abstract:
Keywords:
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