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硫脲加速和稳定化学沉积镍的机理
引用本文:韩克平 方景礼. 硫脲加速和稳定化学沉积镍的机理[J]. 应用科学学报, 1997, 15(2): 229-233
作者姓名:韩克平 方景礼
作者单位:南京大学
摘    要:
测定了硫脲对化学沉积镍的速度、析氢量、极化曲线和稳定电位的影响,并结合对沉积镍层的X射线光电子能谱(XPS)分析,探讨了硫脲对化学沉积镍过程的加速和稳定机理.

关 键 词:化学沉积镍  机理  加速  稳定  硫脲  
收稿时间:1995-10-25
修稿时间:1996-01-21

ACCELERATION AND STABLIZATION MECHANISM OF ELECTROLESS NICKEL DEPOSITION BY THIOUREA
HAN KEPING, FANG JINGLI. ACCELERATION AND STABLIZATION MECHANISM OF ELECTROLESS NICKEL DEPOSITION BY THIOUREA[J]. Journal of Applied Sciences, 1997, 15(2): 229-233
Authors:HAN KEPING   FANG JINGLI
Affiliation:Nanjing University, Nanjing 210093
Abstract:
Influences of thiourea on electroless nickel deposition rate, hydrogen evolution, polarization curves and stationary potential wore determined. Together with the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis of the deposit. the mechanism for acceleration and stabilization of electroless nickel deposition by thio-urea has been discussed.
Keywords:eleotroless nickel deposition   acceleration   stabilization   mechanism  thiourea
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