双源注入机中消除二次电子对束流测量影响的新方法 |
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引用本文: | 郭希铭,李毅,叶维. 双源注入机中消除二次电子对束流测量影响的新方法[J]. 天津师范大学学报(自然科学版), 1997, 0(3) |
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作者姓名: | 郭希铭 李毅 叶维 |
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作者单位: | 天津师范大学物理系 |
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基金项目: | 天津市科委重点学科资助项目 |
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摘 要: | 在离子注入技术中,获得准确注入剂量的关键是如何消除二次电子对束流测量带来的影响.通过实验证实了二次电子对正离子束的影响.采用了在靶室内加入侧向正电场的方法,从而有效地克服了离子流测量不准的问题
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关 键 词: | 二次电子,束流测量,法拉第筒 |
EFFECT OF DECREASING SECOND ELECTRON UPON ION CURRENT MEASUREMENT ON DOUBLE SOURCE IMPLANTER |
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Abstract: | |
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Keywords: | second electron ion current measurement faraday circle tube |
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