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GaAs/Si/AlAs异质结不同生长温度Si夹层分布的CV实验研究
引用本文:李永平,田强,牛智川,杨锡震,吴正龙,王亚非.GaAs/Si/AlAs异质结不同生长温度Si夹层分布的CV实验研究[J].北京师范大学学报(自然科学版),2002,38(4):474-477.
作者姓名:李永平  田强  牛智川  杨锡震  吴正龙  王亚非
作者单位:1. 北京师范大学物理学系,100875,北京;2. 中国科学院半导体所超晶格国家重点实验室,100083,北京;3. 北京师范大学分析测试中心,100875,北京
基金项目:教育部高校骨干教师资助计划;;
摘    要:用MBE生长设备制备了GaAs/Si/AlAs异质结,通过CV法研究了异质结的带阶和GaAs层在不同温度下生长对0.5分子层 Si夹层的影响,得到Si夹层的空间分布随GaAs层生长温度的升高而由局域变为弥散的温度效应.

关 键 词:GaAs/AlAs异质结  Si夹层  CV测量  导带带阶
修稿时间:2001年12月27日

Si INTERLAYER PROFILE IN GaAs/Si/AlAs AT DIFFERENT GROWTH TEMPERATURE BY CV MEASUREMENT
Li Yongping,Tian Qiang,Niu Zhichuan,Yang Xizhen,Wu Zhenglong,Wang Yafei.Si INTERLAYER PROFILE IN GaAs/Si/AlAs AT DIFFERENT GROWTH TEMPERATURE BY CV MEASUREMENT[J].Journal of Beijing Normal University(Natural Science),2002,38(4):474-477.
Authors:Li Yongping  Tian Qiang  Niu Zhichuan  Yang Xizhen  Wu Zhenglong  Wang Yafei
Institution:Li Yongping 1) Tian Qiang 1) Niu Zhichuan 2) Yang Xizhen 3) Wu Zhenglong 3) Wang Yafei 1)
Abstract:GaAs/Si/AlAs heterojunctions prepared by MBE are examined. The conduction band discontinuity and the profile of 0.5 monolayer Si interlayer at different growth temperature are investigated by CV technique. The results reveal that the spatial distributions of Si interlayer become dispersed with increasing temperature.
Keywords:GaAs/AlAs heterojunction  Si interlayer  CV measurement  conduction band  discontinuity
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