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二氧化锡薄膜的不等温等离子体蚀刻

引用本文：	张华民 ,叶麦荣.二氧化锡薄膜的不等温等离子体蚀刻[J].华中科技大学学报(自然科学版),1982(4).

作者姓名：	张华民叶麦荣

摘要：	本文采用三氯化硼作反应试剂,研究一种新的蚀刻二氧化锡薄膜工艺.此工艺可以蚀刻1.5μm的线条,其分辨率好且精度高.当对二氧化锡的腐蚀速度为1500(?)/分左右时,不损伤光致抗蚀剂和二氧化锡层下的二氧化硅.
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