| 化学镀Ni-W-P三元合金的研究 |
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| 引用本文： | 周婉秋,梁平,张丽,刘鑫.化学镀Ni-W-P三元合金的研究[J].沈阳师范大学学报(自然科学版),2001,19(1):34-39. |
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| 作者姓名： | 周婉秋 梁平 张丽 刘鑫 |
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| 作者单位： | 沈阳师范学院 化学与生命科学学院, |
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| 基金项目： | 辽宁省教育厅科学研究项目 |
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| 摘 要： | 研究了化学镀Ni-W-P三元合金溶液的组成及工艺条件对镀层沉积速度及耐蚀性的影响，通过四因子三水平的正交实验，确定了Ni-W-P合金的化学镀工艺.该工艺的沉积速度为2.29×10
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| 关 键 词： | 化学镀 Ni-W-P三元合金 耐蚀性 |
| 文章编号： | 1008-374X(2001)01-0034-06 |
| 修稿时间： | 2000年6月30日 |
A Study on chemical
Plating of Nickel-Tungsten-Phosphorus Ternary Alloy |
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| ZHOU Wan_qiu,LIANG Ping,ZHANG Li,LIU Xin.A Study on chemical
Plating of Nickel-Tungsten-Phosphorus Ternary Alloy[J].Journal of Shenyang Normal University: Nat Sci Ed,2001,19(1):34-39. |
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| Authors: | ZHOU Wan_qiu LIANG Ping ZHANG Li LIU Xin |
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| Abstract: | The effects of bath composition and technique condition on deposition rate and corrosin resistance of chemical plating Ni-W-P films are studied in this thesis. The technique conditions are determined by four factors and three levels intersection experiment. The deposition rate can reach to 2.29g/dm2*h. The film show good corrosion resistance in NaCl solution. |
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| Keywords: | Chemical Plating Ni-W-P Ternary Alloy Corrosion Resistance |
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