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| 等离子体腐蚀技术在硅太阳电池生产中的应用 | |
| 引用本文： | 杜聚臣.等离子体腐蚀技术在硅太阳电池生产中的应用[J].河南科技,1993(3). |
| 作者姓名： | 杜聚臣 |
| 作者单位： | 开封太阳能电池厂 |
| 摘 要： | <正> 一、概述随着现代科学技术的发展,等离子体的应用越来越广泛。它广泛应用于集成电路、金属切割,金属焊接等方面,把这一新工艺应用到硅太阳电池生产中,也取得了很好的效果。在硅太阳电池生产中有一道腐蚀硅片周边P-N结的工序,其目的就是去掉P-N结边缘表面的扩散层,减小P-N结的漏电,改善曲线因子,提高开路电压,从而获得最大输出功率。而在硅太阳电池常规工艺生产中,是采用在硅片两面涂上黑胶,将上下电极保护起来,然后放人由硝酸,氢氟酸和醋酸组成的腐蚀液中腐蚀边界,最后再使用甲苯或二甲苯,煤 |
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