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铯溅射型负离子源中Cs~+离子产额的实验研究
引用本文:缴桂跃,姬成周,王文勋.铯溅射型负离子源中Cs~+离子产额的实验研究[J].北京师范大学学报(自然科学版),1994(2).
作者姓名:缴桂跃  姬成周  王文勋
作者单位:北京师范大学分析测试中心,北京师范大学低能核物理研究所
摘    要:通过电离表面的痕量分析和Cs~+离子产额的测量,研究了功函数、表面温度及铯通量等因素对铯溅射型负离子源表面电离效率的影响.结合Langmuir-Saha表面电离理论,揭示Cs~+离子产额饱和的原因.提出一项改进措施──透射型表面电离源,就其性能进行了讨论.

关 键 词:铯溅射型负离子源  表面电离源  铯通量  吸附  退吸  滞留时间

AN EXPERIMENTAL STUDY FOR CESIUM ION YIELDS IN SNICS
Jiao Guiyue,Ji Chengzhou,Wang Wenxun.AN EXPERIMENTAL STUDY FOR CESIUM ION YIELDS IN SNICS[J].Journal of Beijing Normal University(Natural Science),1994(2).
Authors:Jiao Guiyue  Ji Chengzhou  Wang Wenxun
Abstract:
Keywords:SNICS-source of negative ions by cesium sputtering  surface ionization source  cesium flux  adsorption  desorption  residence time
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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