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| 2008纳米压印光刻国际学术会议 | |
| 作者姓名： | 兰红波 |
| 作者单位： | 山东大学机械工程学院,济南250100 |
| 摘 要： | 2008年9月26～30日，我参加Obducat AB组织的纳米压印光刻学术研讨会。纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography，NIL）是一种全新的纳米图形复制方法，目前压印的最小特征尺寸可以达到5nm，NIL较之现行的投影光刻和其他下一代光刻技术，具有高分辨率、超低成本（国际权威机构评估同等制作水平的NIL比传统光学投影光刻至少低一个数量级）和高生产率等特点， |
| 关 键 词： | 纳米压印光刻 国际学术会议 下一代光刻技术 投影光刻 学术研讨会 图形复制 特征尺寸 高分辨率 |
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