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| 基于磁控溅射制备的YIG薄膜结构与磁性能 | |
| 作者姓名： | 肖杨 卢志红 张振华 赵新 冯金地 |
| 作者单位： | 武汉科技大学材料学部 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(91963207)； |
| 摘 要： | 使用射频磁控溅射在衬底上沉积了纳米级YIG薄膜，借助X射线衍射仪、振动样品磁强计、铁磁共振等研究了溅射气压、溅射功率和退火温度对于所制薄膜结构与磁性能的影响，并基于唯象方程拟合出薄膜样品的Gilbert阻尼系数。 |
| 关 键 词： | YIG薄膜 磁控溅射 晶体结构 磁性 Gilbert阻尼 铁磁共振 |
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