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| 非晶GeO2—SiO2复合薄膜的制备及其红外吸收谱 | |
| 引用本文： | 张祖新,李伟.非晶GeO2—SiO2复合薄膜的制备及其红外吸收谱[J].武汉大学学报(自然科学版),2000,46(1):84-86. |
| 作者姓名： | 张祖新 李伟 |
| 作者单位： | [1]武汉大学物理学系 [2]山东师范大学物理学系 |
| 摘 要： | 采用锗－硅复合靶射反应溅射技术，制备了ＧｅＯ２含量ｘ＝０％－８１％的非晶ＧｅＯ２－ＳｉＯ２复合薄膜，用自动椭偏仪进行测量，得到复合氧化物薄膜中ＧｅＯ２的含量。用傅里叶变换红外光谱仪测得此种薄膜的红外吸收谱随ＧｅＯ２含量的变化关系，并讨论了其结构特征。 |
| 关 键 词： | 非晶 二氧化锗 二氧化硅 复合膜 红外谱 |
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