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等离子体渗氮流量控制系统的研究
引用本文:郑芙蓉,孙奉娄,危立辉.等离子体渗氮流量控制系统的研究[J].中南民族大学学报(自然科学版),2003,22(3):40-42.
作者姓名:郑芙蓉  孙奉娄  危立辉
作者单位:中南民族大学电子信息工程学院
基金项目:国家民委科研基金资助项目 ( MZY990 0 0 1)
摘    要:针对等离子体渗氮工艺过程中存在的转子流量计测量不准、调节精度低、质量流量控制器价格高、电磁阀失效等问题,设计了一种新的等离子体渗氮流量控制系统,该系统具有精度高、响应快、性能稳定、价格低的特点。

关 键 词:等离子体渗氮  流量控制  高速真空电磁阀  转子流量计
文章编号:1672-4321(2003)03-0040-03
修稿时间:2003年6月25日

Study on the Gas Flow Control of Plasma Nitriding System
Zheng Furong Sun Fenglou Wei Lihui Zheng Furong Lect,College of Electronics and Information Engineering,SCUFN,Wuhan ,China.Study on the Gas Flow Control of Plasma Nitriding System[J].Journal of South-Central Univ for,2003,22(3):40-42.
Authors:Zheng Furong Sun Fenglou Wei Lihui Zheng Furong Lect  College of Electronics and Information Engineering  SCUFN  Wuhan  China
Institution:Zheng Furong Sun Fenglou Wei Lihui Zheng Furong Lect,College of Electronics and Information Engineering,SCUFN,Wuhan 430074,China
Abstract:Now there are many problemes in plasma nitriding processing ,for example , inaccurate flowmeter survey, invalid solenoid valves,low regulated precision and high price etc. In order to solve these problems, the new control scheme of gas flow for plasma nitriding is designed.
Keywords:plasma nitriding  flux control  the high speed on/off solenoid valve  
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